D'occasion Rudolph équipement Semi Conducteurs

RUDOLPH TECHNOLOGIES CV-9812 700275 F CONTRÔLE DU SYSTÈME D'INSPECTION (BR4B.4B21)

• Fabricant: Rudolph

Type d'équipement/composant: CONTRÔLE DU SYSTÈME D'INSPECTION | Mpn: CV-9812

RUDOLPH TECHNOLOGIES CV-9812 700275 F CONTRÔLE DU SYSTÈME D'INSPECTION (BR4B.4B21)

• Fabricant: Rudolph

Matériaux sourcés de: États-Unis | Type d'équipement/composant: CONTRÔLE DU SYSTÈME D'INSPECTION | Mpn: CV-9812

RUDOLPH S3000A

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: S3000A

Taille des plaquettes: 12 | Expédition: EXW | Processus: Ellipsométrie laser à faisceau focalisé

RUDOLPH S3000A

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: S3000A

Taille des plaquettes: 12 | Expédition: EXW

RUDOLPH S3000

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: S3000

Taille des plaquettes: 12 | Expédition: EXW

RUDOLPH S3000A

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: S3000A

Taille des plaquettes: 12" | Processus: Ellipsométrie laser à faisceau focalisé | Expédition: EXW

RUDOLPH FE-3

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: FE-3

Taille des plaquettes: 8" | Processus: Ellipsomètre à focale | Expédition: EXW

RUDOLPH WV320

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: WV320

Taille des plaquettes: 12" | Processus: Macro-inspection | Expédition: EXW`

2000 RUDOLPH MP200

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: MP200

2011 RUDOLPH S3000A

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: S3000A

Taille des plaquettes: 12 | Expédition: EXW | Processus: Ellipsométrie laser à faisceau focalisé

2011 RUDOLPH S3000A

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: S3000A

Taille des plaquettes: 12 | Expédition: EXW | Processus: Ellipsométrie laser à faisceau focalisé

2010 RUDOLPH WS3840

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: WS3840

Taille des plaquettes: 12" | Processus: Métrologie des bosses en 3D | Expédition: EXW`

RUDOLPH Meta Pulse 200

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: Metapulse 200

Taille des plaquettes: 8" | Processus: MESURE DE L'ÉPAISSEUR DU FILM | Expédition: EXW

2005 RUDOLPH MP200

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: MP200

2011 RUDOLPH S3000A

• Fabricant: Rudolph
• Modèle: S3000A

Taille des plaquettes: 12 | Expédition: EXW | Processus: Ellipsométrie laser à faisceau focalisé